Маска XT ONE PHOTO SIGMA

Форма оправы “A-cut” расширяет и максимизирует угол обзора в нижней части горизонтальной плоскости.

Посадка: оправа из двух материалов разной плотности для максимального комфорта. Анатомическая посадка и улучшенный комфорт вне зависимости от формы лица благодаря технологии Custom ID-Fit, основанной на тщательном анализе зоны лица с учетом уникальных структурных и биомеханических особенностей разных лиц.    

Airflow System. Система вентиляции разработана для поддержания во внутреннем пространстве масок сбалансированного объема свежего воздуха. Обеспечивает сухую и незапотевающую внутреннюю поверхность светофильтров. Форма и дизайн маски превосходно сочетается со всеми шлемами.

Фильтры: Технология Injected - фильры изготовлены из ударопрочного поликарбоната по технологии впрыска.  Сферические фильтры PHOTOCHROMIC LTS MULTILAYER. 100% поглощение UV.  

Система Twin Lock - быстрая замена фильтров. 

OTG - Совместимость с очками   

Вспененный материал AdvancedSkin ActiveDry: эффективное удаление влаги из вспененного материала, сохраняет кожу сухой.

В комплекте жёсткий кофр для маски.

Вес: 140 г.